製品詳細

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薬液洗浄裝置(薬液回収方式)/
SP4200C

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スペックシート(第8版)

本裝置はpH電極に付著したスケールを化學的に除去する裝置て?、超音波洗浄や水シ?ェット洗浄て?は効果か?ないところて?使用するために開発されたものて?す。 従來人手により行われていた薬液洗浄を全自動化したものて?、定期的に薬液の注入、ハ?フ?リンク?による洗浄、薬液の回収を行います。特に排煙脫硫裝置て?のpH測定には効果的て?す。 本裝置は制御盤、洗浄器(電極保持具含む)、薬液タンク、ホールト?アンフ?(オフ?ション)により構成されます。
特徴

■制御盤
測定と洗浄周期を決めるシーケンス回路、電磁弁を內蔵。

■薬液タンク
タンク、架臺、電磁弁などにより構成されます。

■洗浄器
制御盤からの信號により、電極保持具を持ち上げ電極近傍に空間を作り、薬液の注入、回収を行います。

■ホールドアップ(オプション)
洗浄直前のpH値を洗浄時間中保持するユニットで、制御盤からの信號によりpH値を保持します。

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